氧化鋁是最常用的陶瓷涂層材料之一，具有耐磨、抗腐蝕、透光率高、熱穩定性好、機械強度高等優勢，因此常用于包裝防護、電器產品、機械涂料、生物醫學植入物等行業。目前，制備氧化鋁涂層的方法較多，采用的設備儀器和制備條件各不相同。

陽極氧化法

陽極氧化制備技術可以制備出孔徑可控、有序的氧化鋁薄膜，用此方法制備的薄膜材料可以用作一維納米材料的模板、微過濾器的過濾膜和納米級電器件。

磁控濺射法

磁控濺射法是將靶材上的原子或分子通過蒸發或濺射的工藝沉積到基底上形成涂層的方法，其根據磁控反應的差異分為射頻反應磁控濺射法和直流（交流）反應磁控濺射法。

無電沉積法

無電沉積是通過控制溶液配比組成成分和操作條件獲得不同尺度納米晶體的方法，其對材料的尺寸大小沒有要求，操作環境簡單，在簡單的金屬物體表面，甚至在復雜形狀的陶瓷表面都可進行平整均勻的沉積。

溶膠－凝膠法

溶膠－凝膠法是將金屬醇鹽或無機物作為前驅體溶解在乙醇等有機溶劑中，以弱酸和弱堿為催化劑，加入適量水使反應物生成溶膠。將溶膠陳化一段時間，溶膠膠束聚合，線性結構變成網絡結構形成凝膠，通過加熱處理干燥固化凝膠得到目標材料。該方法合成的薄膜反應過程溫度低、成本低廉、粒徑可控、設備簡單，被廣泛應用于陶瓷和金屬表面。

電子束蒸發法

電子束蒸發法是在真空條件下用電子束將噴涂材料進行高溫蒸發處理，并向需要噴涂的基底輸運，通過冷水環境調節使加熱的物質凝結形成涂層的方法。其可以在較高的沉積速率下快速制出薄膜，但在電子束加熱裝置中，會將被加熱的物質放置于冷水中，潮濕的環境影響了涂層的結合力，從而影響整體的質量。

化學氣相沉積法

化學氣相沉積法首先生成氣態揮發性物質，然后運輸揮發性物質到基底表面，在基體上通過化學反應生成固態沉積物，氣態物質通過化學反應處理會生成不同結構形貌的物質。

低溫水熱處理法

水熱反應是在具有一定溫度和壓力的反應條件下，反應物在密閉的水熱反應釜中發生化學反應生成新產物的總稱，水熱反應所需熱量較低，可結合一定壓力進行反應生成相應產物。

提高材料自身的抗磨損、腐蝕、高溫能力是改善機械零部件失效的有效途徑，氧化鋁陶瓷覆蓋層在提高耐熱、耐磨和耐腐蝕能力等方面有著增強作用，可有效保護或強化零件表面，防止出現失效現象。